單晶硅廢水除氟不達標？深度除氟劑幫你解決！

單晶硅作為一種比較活潑的非金屬元素晶體，是晶體材料的重要組成部分，主要用作半導體材料和利用太陽(yáng)能光發(fā)發(fā)電、供熱等。在單晶硅生產(chǎn)過(guò)程的制絨、刻蝕、酸洗等環(huán)境，會(huì )用到大量氫氟酸等化學(xué)物質(zhì)，從而使得廢水中氟離子含量高，給光伏、半導體等廢水的處理帶來(lái)了挑戰。

對于含氟廢水的處理，目前國內大多數生產(chǎn)廠(chǎng)尚無(wú)完善的處理設施，所排放的廢水氟含量超過(guò)國家排放標準，會(huì )嚴重污染到環(huán)境。目前國內外常用的含氟廢水處理方法大致分為兩類(lèi)，即沉淀法和吸附法。

化學(xué)沉淀法是方法簡(jiǎn)單、處理方便，費用低，但處理后的廢水氟含量一般只能降到15mg/L，而且存在泥渣沉降緩慢，脫水困難，不適用連續處理連續排放等缺點(diǎn)。吸附法一般只適用于低濃度的含氟廢水或經(jīng)其他方法處理后氟化物濃度降至10-20mg/L的廢水。

深度除氟劑針對化學(xué)沉淀法以及吸附法無(wú)法再降低的低濃度含氟廢水，進(jìn)行深度處理，可降至0.5mg/L，且相比市面其它產(chǎn)品而言，污泥能夠減少30-50%，能夠幫助客戶(hù)節約成本。